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純度：99.9%
形狀：平面靶 異型定制
規(guī)格：50*3mm 101*6mm 或者定制
銅錳合金靶材是一種用于磁控濺射鍍膜的金屬靶材，通常由高純金屬錳和銅制成。是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的高純?yōu)R射靶材，它在集成電路的金屬互連層、金屬接觸層、擴(kuò)散阻擋層等的制備中發(fā)揮著重要作用。
銅錳合金靶材應(yīng)用
半導(dǎo)體器件：銅錳合金靶材在半導(dǎo)體器件制造中用于物理氣相沉積（PVD）濺射鍍膜技術(shù)，用于制作集成電路和微芯片。隨著集成電路向更小的制程方向發(fā)展，銅導(dǎo)線工藝因其高器件速度和導(dǎo)電性能而應(yīng)用量增大，銅錳合金靶材需求有望持續(xù)增長。
光學(xué)薄膜：在光學(xué)領(lǐng)域，銅錳合金靶材用于制備具有高化學(xué)穩(wěn)定性和導(dǎo)電性的薄膜，這些薄膜可用于光學(xué)器件的制造。
太陽能電池：在太陽能電池領(lǐng)域，銅錳合金靶材用于PVD鍍膜工藝，用于制備薄膜太陽能電池中的導(dǎo)電層薄膜。
顯示技術(shù)：銅錳合金靶材在平板顯示行業(yè)中用于PVD鍍膜，用于制作顯示面板和觸控屏面板。
廠房地址：湖南省瀏陽市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)永泰路創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A4-1棟
郵箱地址：erin@xk-sputteringtarget.com
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