釕濺射靶材是由高純度釕金屬組成的灰色靶。熔點2334°
C ，密度12.37，熱膨脹 6.4 μm /（m·K）。釕濺射靶材有各種形式，純度，尺寸和價格。我們能夠根據(jù)您提供給我們的任何規(guī)格/圖紙?zhí)峁┒ㄖ频臑R射材料。
釕靶材制備工藝流程
備料 - 燒結 - 退火 - 軋制 - 沖壓 - 金相檢測 - 機加工 - 尺寸檢測 - 清洗 - 檢驗 - 包裝
釕靶材制備方法
將粒度≤325目的釕粉冷壓成型，冷壓壓力為250～350MPa，得到釕坯；將所述釕坯進行抽真空至0.008～0.12Pa后以10～20℃/min升溫至790～820℃，保溫30～50min后，再以5～10℃/min升溫至第一溫度加壓，加壓壓力為50～70MPa；繼續(xù)升溫至第二溫度，保溫120～180min；第一溫度為1000～1200℃，第二溫度為1200～1350℃；后以5～8℃/min降溫至1000～1100℃，保溫55～65min，得到釕濺射靶材。
釕靶材產(chǎn)品優(yōu)勢
耐化學腐蝕、耐摔性、超耐磨、耐高溫、防靜電、防火性
釕濺射靶材的應用
釕濺射靶材用于在基板上生產(chǎn)純釕薄膜，其在微芯片中顯示出令人鼓舞的性能。
釕的其他應用包括：
在電子工業(yè)中用于制造電觸點和片式電阻器
用作化學工業(yè)中電化學電池中氯生產(chǎn)的陽極。
用作鉑和鈀的硬化劑和多功能催化劑，用于從煉油廠和其他工業(yè)過程中去除H2S。
廠房地址：湖南省瀏陽市高新技術開發(fā)區(qū)永泰路創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A4-1棟
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