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粉末冶金法制備鉬濺射靶材

鉬靶材


由于鉬是一種高熔點(diǎn)(2620°C)的金屬,因此,鉬濺射靶材的主要制備方法以粉末冶金方法為主。


鉬粉末


粉末冶金法制備鉬濺射靶材三大關(guān)鍵點(diǎn)
1、選擇高純鉬粉作為原料;
2、選擇能實(shí)現(xiàn)快速致密化的成形燒結(jié)技術(shù), 以保證靶材的低孔隙率, 并控制晶粒度;
3、制備過(guò)程嚴(yán)格控制雜質(zhì)元素的引入。其中鉬粉原料的純度是保證終鉬濺射靶材純度的主要因素, 其純度至少需要99. 95% 以上。

粉末壓制工藝
壓制
粉末冶金法制備鉬濺射靶材工藝步驟包括銑削、壓制和燒結(jié)步驟。選取高純鉬粉作為原料,經(jīng)過(guò)冷等靜壓成型后在中頻感應(yīng)爐或真空燒結(jié)爐中進(jìn)行燒結(jié),后經(jīng)過(guò)軋制和機(jī)加工,得到成品靶材.

粉末燒結(jié)工藝
燒結(jié)
鉬靶材薄膜具有良好的導(dǎo)電性和熱穩(wěn)定性、耐化學(xué)性、低熱膨脹系數(shù)等優(yōu)點(diǎn)。它已廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能發(fā)電、計(jì)算機(jī)電路、平板顯示器、存儲(chǔ)介質(zhì)等方面。


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