濺射靶材使用前的準(zhǔn)備工作有哪些?

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍材料上，使濺射的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理，從具有高動(dòng)能的材料上飛離到基板上，形成薄膜。這種材料稱為濺射靶材。這里我們談?wù)劄R射前的一些準(zhǔn)備工作。

濺射準(zhǔn)備
保持真空腔至關(guān)重要，尤其是保持濺射系統(tǒng)清潔。潤(rùn)滑油、灰塵和以前的涂層形成的任何殘留物都會(huì)聚集水分和其他污染物，直接影響真空度并增加成膜失敗的可能性。靶材短路或起弧、成膜表面粗糙、化學(xué)雜質(zhì)含量過(guò)高等原因往往是濺射室、濺射槍、靶材不干凈造成的。

1. 為保持鍍層的成分特性，濺射氣體（氬氣或氧氣）必須清潔干燥。基板安裝在濺射室后，必須抽出空氣以達(dá)到工藝所需的真空度。

2、暗區(qū)屏蔽罩、空腔壁、相鄰面也需要保持清潔。清潔真空腔時(shí)，建議使用玻璃球拋丸法處理臟件。早期好用壓縮空氣清除型腔周圍的濺射殘留物，然后用浸漬氧化鋁的砂紙輕輕打磨表面。紙張拋光后，應(yīng)用酒精、丙酮和去離子水清洗。同時(shí)，建議使用工業(yè)吸塵器進(jìn)行輔助清潔。

3.真空密封塑料袋包裝，內(nèi)置防潮劑。

4. 使用目標(biāo)時(shí)不要用手直接接觸目標(biāo)。在使用目標(biāo)之前，請(qǐng)戴上干凈且不起毛的防護(hù)手套。不要用手直接接觸目標(biāo)。

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