真空濺射EMI具有導電率高、電磁屏蔽效率高的特點?？蓮V泛應用于通訊產(chǎn)品（手機）、電腦（筆記本電腦）、便攜式電子產(chǎn)品、消費類電子產(chǎn)品、網(wǎng)絡(luò)硬件（服務器）、醫(yī)療器械、家用電子產(chǎn)品、航空航天、國防電子設(shè)備的EMI屏蔽。同時適用于各種塑料制品（PC、PC+ABS、ABS.）的金屬屏蔽。

屏蔽（EMI）濺射鍍膜具有以下特點：
1、價格低廉；
2、金屬膜厚度僅為0.5-2μm，不影響組裝；
3、環(huán)保工藝，絕對環(huán)保無污染；
4、濺射材料無限制。

用于屏蔽的鍍膜涂層的濺射靶材有哪些？

有銅、鉻、銀、金、不銹鋼、鋁、二氧化硅等。

銀濺射靶材
銀是一種柔軟、有光澤的元素，屬于元素周期表中金屬的過渡族。它的熔點為 962 ℃，密度為 10.5 g/cc，在 1,105 ℃ 時的蒸氣壓為 10-4Torr。自古以來，銀就被用于無數(shù)產(chǎn)品中。它具有延展性、延展性，并且是所有金屬中導電性強的。它被認為是一種貴金屬，可以在珠寶、焊料、油漆和鏡子中找到。它在真空下蒸發(fā)以生產(chǎn)半導體、傳感器、燃料電池和光學涂層。

銅濺射靶材
銅是一種延展性金屬，具有非常高的導熱性、導電性、延展性、耐腐蝕性。新暴露的純銅表面呈紅橙色。高純銅在電子工業(yè)中用作各種線材、電子封裝的鍵合線、優(yōu)質(zhì)音頻線和集成電路、液晶顯示器濺射靶材、離子鍍。它也是原子能、火箭、導彈、航空、航天導航和冶金工業(yè)中不可缺少的寶貴材料。

這些濺射靶材可用于任何室溫下的固體導電金屬、有機材料、絕緣材料，而且成膜致密均勻，膜厚易于控制。附著力強，可與多種不同濺射材料同時使用，制備多層薄膜。

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