用于平板顯示器鍍膜的靶材有哪些

目前，便攜式個人電腦、電視、手機等平板顯示設(shè)備的需求成倍增長，極大地推動了各種平板顯示設(shè)備的發(fā)展。此外，用于平面顯示器的濺射靶材的需求也在迅速增加。

平板顯示器類型
平板顯示器由金屬電極、透明導(dǎo)電電極、絕緣層和發(fā)光層組成。它包括液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、薄膜晶體管液晶平板顯示器（TFT-LCD）。這些平板顯示設(shè)備都使用各種類型的薄膜，沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示設(shè)備。

平板顯示器濺射靶材
為了保證大面積薄膜的均勻性，提高生產(chǎn)效率和降低成本，濺射技術(shù)越來越多地用于制備平板顯示薄膜。平板顯示器鍍膜用濺射靶材主要有鉻Cr濺射靶材、鉬Mo濺射靶材、鋁Al濺射靶材、鋁銅AlCu合金濺射靶材、鋁釹AlNd濺射靶、鋁鈧AlSc濺射靶、鋁硅銅AlSiCu濺射靶、銅Cu濺射靶材、銅鋅CuZn合金濺射靶材、ITO濺射靶材。進(jìn)一步詳情如下：

鉻濺射靶材
鉻濺射靶材廣泛應(yīng)用于五金工具鍍膜、裝飾鍍膜、平板顯示器鍍膜。五金涂層用于各種機械和冶金應(yīng)用，例如機器人工具、車削工具、模具（鑄造、沖壓）。涂膜厚度一般為2~10um，要求硬度高、磨損小、耐沖擊、耐熱沖擊、附著力強?，F(xiàn)在，鉻濺射靶材普遍應(yīng)用于玻璃鍍膜行業(yè)。重要的應(yīng)用是汽車后視鏡的制備。隨著汽車后視鏡的要求越來越高，很多企業(yè)已經(jīng)從原來的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)向真空濺射鍍鉻工藝。

鉬濺射靶材
鉬是一種銀灰色金屬，莫氏硬度為 5.5。其熔點為 2,623 °C (4,753 °F)。只有鉭、鋨、錸、鎢和碳在天然存在的元素之間具有更高的熔點。鉬的弱氧化從 300 °C (572 °F) 開始。它是商用金屬中熱膨脹系數(shù)低的之一。當(dāng)鉬絲的直徑從約 50-100 nm 減小到 10 nm 時，鉬絲的抗拉強度增加約三倍，從約 10 GPa 到 30 GPa。

鋁濺射靶材
鋁是一種銀白色的金屬材料。它可以在廚房用具、汽車、路燈和食品包裝中的鋁箔中找到。雖然它不是一種堅固的材料，但它是熱和電的良導(dǎo)體，可以形成耐腐蝕的氧化層。如果在真空中蒸發(fā)，鋁層會形成望遠(yuǎn)鏡、汽車前照燈、鏡子、包裝和玩具上的反射涂層。鋁濺射靶材廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車照明、OLED、光學(xué)等行業(yè)。一些高純度鋁靶材用于半導(dǎo)體芯片、平板顯示器和太陽能電池行業(yè)。

銅濺射靶材
銅是一種延展性金屬，具有非常高的導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性、延展性、耐腐蝕性。新暴露的純銅表面呈紅橙色。高純銅在電子電氣工業(yè)中用作各種線材、電子封裝的鍵合線、優(yōu)質(zhì)音頻線和集成電路、液晶顯示器濺射靶材、離子鍍等。它也是原子能、火箭、導(dǎo)彈、航空、航天導(dǎo)航和冶金工業(yè)中不可缺少的寶貴材料。 鑫康根據(jù)要求提供高純度OFC、白銅和合金產(chǎn)品。

ITO濺射靶材
氧化銦錫 (ITO) 濺射靶材廣泛用于形成電透明薄膜。這些薄膜采用直流磁控濺射工藝用于平板顯示器、太陽能電池、氣體傳感器等的電極。 ITO濺射靶材需要高純度、均勻的微觀結(jié)構(gòu)、高密度和高導(dǎo)電性來提高ITO薄膜的性能。 ITO 濺射靶材正在使用 In2O3-SnO2 混合粉末和錫摻雜的氧化銦粉末制造。

長沙鑫康新材料作為濺射靶材制造商，我們不僅提供玻璃濺射靶材，還提供其他領(lǐng)域的濺射靶材。 如純金屬濺射靶材、合金濺射靶材、陶瓷氧化物濺射靶材等。

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