釤靶材是一種用于磁控濺射或離子鍍等鍍膜技術(shù)中的靶材,它是由釤金屬制成的。釤是一種稀土元素,具有高熔點(diǎn)、高硬度和良好的導(dǎo)電性等特點(diǎn),因此在鍍膜領(lǐng)域中被廣泛應(yīng)用。
釤靶材特征
釤靶材形狀:平面靶、異型定制
釤靶材純度:3N
釤靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供金屬釤塊、釤棒、釤粉等
釤靶材制備工藝
原材料準(zhǔn)備:選擇高純度的釤金屬作為原材料,通常要求其純度在99.99%以上;
熔煉:將釤金屬放入高溫爐中熔化,熔煉溫度通常在1500°C以上。在熔煉過(guò)程中,需要控制熔煉時(shí)間和溫度,以確保釤金屬的純度和均勻性;
鑄造:將熔融的釤金屬倒入預(yù)先準(zhǔn)備好的模具中,冷卻凝固后形成釤錠;
熱軋:將釤錠加熱至一定的溫度,然后通過(guò)熱軋機(jī)進(jìn)行軋制,使其成為一定厚度的釤板;
冷軋:將熱軋后的釤板進(jìn)行冷軋,使其厚度更薄,表面更加平整;
熱處理:將冷軋后的釤板進(jìn)行熱處理,以改善其力學(xué)性能和微觀結(jié)構(gòu);
機(jī)加工:將熱處理后的釤板進(jìn)行機(jī)加工,形成終的釤靶材形狀;
清洗和檢查:將機(jī)加工后的釤靶材進(jìn)行清洗,去除表面的油污和雜質(zhì),然后進(jìn)行嚴(yán)格的檢查,確保其質(zhì)量和性能滿(mǎn)足要求。
上圖是釤靶材的材質(zhì)分析報(bào)告。
釤靶材應(yīng)用
制備薄膜材料:釤靶材可以用于制備各種薄膜材料,如金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)薄膜等。在鍍膜過(guò)程中,釤靶材被置于真空腔內(nèi),通過(guò)離子束或電子束的轟擊,將釤原子濺射出并沉積在基底材料上,形成薄膜。
太陽(yáng)能電池:釤靶材可以用于制備太陽(yáng)能電池的薄膜材料。例如,在太陽(yáng)能電池中,釤靶材可以用于制備透明導(dǎo)電薄膜,以提高太陽(yáng)能電池的效率。
光學(xué)器件:釤靶材可以用于制備光學(xué)器件的薄膜材料,如反射鏡、透鏡、棱鏡等。在這些應(yīng)用中,釤靶材可以用于制備高反射率的金屬薄膜,以提高光學(xué)器件的性能。
半導(dǎo)體器件:釤靶材可以用于制備半導(dǎo)體器件的薄膜材料,如二極管、晶體管等。在這些應(yīng)用中,釤靶材可以用于制備半導(dǎo)體薄膜,以提高半導(dǎo)體器件的性能。
其他應(yīng)用:釤靶材還可以用于其他應(yīng)用,如制備磁性薄膜、超導(dǎo)薄膜、耐磨薄膜等。
金屬釤其他應(yīng)用
磁性材料:金屬釤具有高的飽和磁化強(qiáng)度和低的矯頑力,因此被廣泛應(yīng)用于磁性材料的制備中,如永磁體、軟磁材料等。
催化劑:金屬釤可以作為催化劑,用于催化化學(xué)反應(yīng),如氧化反應(yīng)、氫化反應(yīng)等。
電子材料:金屬釤可以用于制備電子材料,如半導(dǎo)體材料、光電材料等。
光學(xué)材料:金屬釤可以用于制備光學(xué)材料,如光學(xué)玻璃、光學(xué)透鏡等。
其他應(yīng)用:金屬釤還可以用于其他應(yīng)用,如制備合金、陶瓷材料等。
釤靶材系列產(chǎn)品
除釤靶材外,我們還可以提供鎳酸釤、六硼化釤、氧化釤靶、鉍酸釤、釤鈷合金等濺射靶材。
感謝您閱讀關(guān)于釤靶材制備工藝及應(yīng)用介紹,希望大家能對(duì)釤靶材有更好的了解。如果您想了解更多關(guān)于金屬科研材料的信息,請(qǐng)收藏我們的網(wǎng)站鑫康新材料靶材生產(chǎn)廠家http://1230580.cn/。
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