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高純釓靶材制備方法及應(yīng)用領(lǐng)域介紹

釓靶材


釓靶材是一種用于濺射鍍膜工藝的材料,主要由金屬釓(Gd)和其他合金元素組成。是一種銀白色的金屬,有延展性,熔點(diǎn)1313°C,沸點(diǎn)3266°C,密度7.9004g/cm3。我們的釓靶材具有較高的純度,一般在99.9%以上。釓靶材需要具有高密度,通常通過(guò)高溫?zé)Y(jié)工藝實(shí)現(xiàn)。


釓靶材特征

釓靶材形狀:平面靶、異型定制

釓靶材純度:3N

釓靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制

我們還可以提供金屬釓塊、釓方塊、釓顆粒等


釓靶材制備工藝

原料準(zhǔn)備:根據(jù)需要制備的釓靶材的成分要求,準(zhǔn)確稱(chēng)取所需的釓粉。

混合:將所稱(chēng)取的釓粉在球磨機(jī)中混合均勻,以確保元素之間的良好分散。

壓型:將混合后的粉料通過(guò)冷等靜壓或模壓的方式壓制成所需的形狀,得到粉末壓坯。

燒結(jié):將粉末壓坯置于高溫?zé)Y(jié)爐中,在一定的溫度和氣氛下進(jìn)行燒結(jié),使粉料顆粒之間形成冶金結(jié)合,得到高密度的釓靶坯。燒結(jié)溫度通常在1300℃-1500℃之間。

機(jī)加工:對(duì)燒結(jié)后的釓靶坯進(jìn)行機(jī)加工,以達(dá)到所需的尺寸和形狀。

表面處理:對(duì)加工后的釓靶材進(jìn)行表面處理,如清洗、拋光等,以提高其表面質(zhì)量。

檢測(cè):對(duì)制備好的釓靶材進(jìn)行性能檢測(cè),如密度、硬度、純度等,以確保其滿足使用要求。


釓靶材成本報(bào)告


上圖是釓靶材的材質(zhì)分析報(bào)告。


釓靶材應(yīng)用

光學(xué)薄膜:釓靶材廣泛用于制備光學(xué)薄膜,如反射膜、增透膜、分束膜等。這些光學(xué)薄膜可以應(yīng)用于激光器、光學(xué)儀器、顯示器等設(shè)備,以提高其光學(xué)性能。

電子薄膜:釓靶材用于制備電子薄膜,如電容器、電阻器、磁性存儲(chǔ)器等電子元器件。這些電子薄膜具有良好的電學(xué)性能和穩(wěn)定性,廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備和集成電路中。

磁性薄膜:釓靶材可用于制備磁性薄膜,如磁記錄介質(zhì)、磁性傳感器等。這些磁性薄膜在信息存儲(chǔ)、磁性檢測(cè)等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。


金屬釓其他應(yīng)用

磁性材料:金屬釓具有良好的磁性性能,可以用于制備各種磁性材料,如磁記錄介質(zhì)、磁性傳感器等。在信息存儲(chǔ)、磁性檢測(cè)等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。

耐火材料:金屬釓可用于制備高性能耐火材料,如高溫爐襯、火箭發(fā)動(dòng)機(jī)噴嘴等。這些耐火材料在高溫環(huán)境下具有良好的穩(wěn)定性。

電子元器件:金屬釓可用于制備電子元器件,如電阻器、電容器等。這些電子元器件在電子設(shè)備和集成電路中具有廣泛應(yīng)用。

研究實(shí)驗(yàn):金屬釓作為稀土元素,具有獨(dú)特的物理和化學(xué)性能,常被用于科學(xué)研究實(shí)驗(yàn),如材料科學(xué)、化學(xué)反應(yīng)機(jī)理研究等。

其他應(yīng)用:金屬釓還可用作催化劑、光催化材料、磁性記錄裝置等領(lǐng)域的原料。

總之,金屬釓在電子、光學(xué)、醫(yī)療、核能等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,其應(yīng)用領(lǐng)域還將不斷拓展。


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