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鈷鈮鋯合金靶材是一種用于物理氣相沉積（PVD）或?yàn)R射鍍膜技術(shù)的高性能靶材，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、耐磨涂層和功能性薄膜制備等領(lǐng)域。

純度：3N

規(guī)格：D50.8x3mm ，D75x100mm 或者規(guī)格生產(chǎn)

鈷鈮鋯合金靶材性能特點(diǎn)
磁性能優(yōu)越：濺射得到的納米晶磁性薄膜，與鈷、鈷鐵和坡莫合金等多晶態(tài)磁性薄膜及銅等貴金屬材料形成的非磁性隔離層構(gòu)成的三明治膜層，具有極薄的總體厚度，較大的磁阻效應(yīng)，穩(wěn)定的單疇?wèi)B(tài)，優(yōu)越的翻轉(zhuǎn)特性。
成分均勻性好：通過(guò)高真空熔煉和后續(xù)加工工藝，能保證合金靶材內(nèi)部成分均勻一致，使濺射鍍膜過(guò)程中各元素的濺射速率穩(wěn)定，從而獲得性能穩(wěn)定的薄膜。
純度高：一般要求原材料鈷、鈮、鋯的純度都非常高，通常達(dá)到 99.9% 以上，以減少雜質(zhì)對(duì)鍍膜性能的影響。

鈷鈮鋯合金靶材制備工藝

將高純的鈷、鈮、鋯原材料按照一定比例稱量后，裝入磁懸浮感應(yīng)熔煉爐的水冷坩堝內(nèi)，抽真空、充入保護(hù)氣體洗爐，再次抽真空并充入新的保護(hù)氣體，加熱到一定溫度使原材料熔煉，然后升溫至全部熔化，冷卻至室溫得到合金錠，再將合金錠進(jìn)一步加工成所需的靶材形狀和尺寸。

鈷鈮鋯合金靶材應(yīng)用領(lǐng)域
電子工業(yè)：用于制造薄膜電阻、電容、半導(dǎo)體器件等。
光學(xué)薄膜：用于光學(xué)涂層，如反射鏡和濾光片。
耐磨涂層：應(yīng)用于機(jī)械零件、工具等，提升耐磨性。
磁記錄領(lǐng)域：可用于生產(chǎn)硬盤、磁帶等存儲(chǔ)介質(zhì)的磁性薄膜。
裝飾鍍膜：在裝飾行業(yè)，可用于制備具有特定顏色和光澤的裝飾性薄膜。