提升磁控濺射鐵磁性靶材磁場(chǎng)強(qiáng)度的四種方法

很多時(shí)候鐵磁性靶材表面的磁場(chǎng)達(dá)不到磁控濺射要求的磁場(chǎng)強(qiáng)度，因此，提升鐵磁性靶材表面磁的強(qiáng)度，以達(dá)到正常濺射工作對(duì)靶材表面磁場(chǎng)大小的要求，是我們急需解決的問(wèn)題。

下面我們通過(guò)四種方法來(lái)增強(qiáng)鐵磁性靶材表面磁場(chǎng)強(qiáng)度
1、靶材的設(shè)計(jì)改進(jìn)
2、增強(qiáng)磁控濺射陰極的磁場(chǎng)
3、降低靶材的導(dǎo)磁率
4、磁控濺射系統(tǒng)的改進(jìn)設(shè)計(jì)

靶材的設(shè)計(jì)改進(jìn)
a、一種降低鐵磁性靶材厚度是解決磁控濺射鐵磁性靶材的常見(jiàn)方法。如果鐵磁性靶材足夠薄，則其不能完全屏蔽磁場(chǎng)，一部分磁通將靶材飽和，其余的磁通將從靶材表面通過(guò)，達(dá)到磁控濺射的要求。但是這種方法會(huì)造成靶材使用壽命短，利用率低下，嚴(yán)重造成濺射不均勻。

b、一種在靶材表面刻槽，槽的位置在濺射環(huán)兩側(cè) (見(jiàn)圖1) 。這種設(shè)計(jì)的靶材適用于具有一般導(dǎo)磁率的鐵磁性靶材，例如鎳。但對(duì)具有高導(dǎo)磁率的靶材料效果較差。雖然靶材的這種改進(jìn)增加了靶材的成本，但這種措施無(wú)需對(duì)濺射陰極進(jìn)行改動(dòng)，能在一定程度上滿足濺射鐵磁性材料的需求。

c、一種間隙型刻槽改進(jìn)靶材(圖二)。該靶所用的陰極是平面磁控濺射型的。靶磁場(chǎng)由置于靶的銅背板下方的水冷卻的永磁體產(chǎn)生。在兩個(gè)磁極之間的中心位置處和不帶靶材的陰極表面上，其磁場(chǎng)強(qiáng)度為0.145 T。靶材可以為鐵、鎳等導(dǎo)磁材料，將靶材粘在銅背板上以后，用專用刀具在靶材上沿其寬度方向切出所要求的間隙。其原理是在靶材表面上切出許多截?cái)啻怕返拈g隙，使得在靶材尚未達(dá)到磁飽和的條件下，通過(guò)控制間隙寬度和間隙的間隔，即可在磁性材料靶表面上產(chǎn)生均勻的，較大的漏泄磁場(chǎng)。從而使靶材表面上能夠形成正交磁場(chǎng)，而達(dá)到磁性材料的高速磁控濺射成膜的目的，這種磁系統(tǒng)可以允許磁性靶材的厚度超過(guò)20 mm。

增強(qiáng)磁控濺射陰極的磁場(chǎng)
a、采用高強(qiáng)磁體，通過(guò)強(qiáng)磁場(chǎng)飽和更厚的鐵磁性靶材得到靶材表面需要的濺射磁場(chǎng)強(qiáng)度。但是高強(qiáng)磁鐵的價(jià)格昂貴，同時(shí)采用這種方法增加靶材厚度的效果有限，而且由于強(qiáng)永磁體大小不能改變，這種方法會(huì)引起嚴(yán)重的等離子體磁聚現(xiàn)象。等離子體磁聚現(xiàn)象的產(chǎn)生使濺射區(qū)靶材很快消耗完而不能繼續(xù)濺射，從而造成靶材利用率很低。

b、采用電磁線圈來(lái)產(chǎn)生高強(qiáng)磁場(chǎng)，通過(guò)調(diào)節(jié)電磁線圈的電流控制磁場(chǎng)大小來(lái)抑制等離子體磁聚。但這種方法的磁場(chǎng)裝置復(fù)雜而且成本高，同時(shí)電磁線圈還受到濺射陰極尺寸的限制，從而使電磁場(chǎng)的強(qiáng)度受到限制，導(dǎo)致鐵磁性靶材的厚度增加有限。

c、還可以采用永磁體與電磁體復(fù)合的方法解決等離子體磁聚的問(wèn)題，在不同的濺射過(guò)程中調(diào)節(jié)電磁線圈，以產(chǎn)生大小合適的電磁場(chǎng)。這種方法的缺點(diǎn)是電磁源裝置復(fù)雜，電磁線圈的使用也增加了設(shè)備成本和使用成本。


降低靶材的導(dǎo)磁率
把鐵磁材料加熱到其居里溫度之上，鐵磁材料轉(zhuǎn)變?yōu)轫槾挪牧?，其磁屏蔽效?yīng)將消失，從而磁控濺射鐵磁材料將得到解決。這種方法的缺點(diǎn)是需要一個(gè)加熱裝置來(lái)維持鐵磁靶材溫度在其居里點(diǎn)之上，并要對(duì)鐵磁靶的溫度實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。另外，大多數(shù)鐵磁材料的居里溫度非常高，在400℃~1100℃，如果把靶材加熱至該溫區(qū)可能導(dǎo)致無(wú)法在基片上成膜，或損壞其他真空部件。另一個(gè)不利之處是大多數(shù)高性能永磁體一旦溫度超過(guò)150℃~200℃將產(chǎn)生退磁現(xiàn)象，而無(wú)法恢復(fù)原有磁性。


磁控濺射系統(tǒng)的改進(jìn)設(shè)計(jì)
采用對(duì)靶磁控濺射系統(tǒng)，可以獲得高沉積速率的磁性膜，且不必大幅度升高基片溫度。對(duì)靶磁控濺射系統(tǒng)可以用來(lái)制備磁性Fe、Ni及其磁性合金膜。對(duì)靶磁控濺射系統(tǒng)其原理如圖3所示。兩只靶相對(duì)安置，所加磁場(chǎng)和靶表面垂直，且磁場(chǎng)和電場(chǎng)平行。陽(yáng)極放置在與靶面垂直部位，和磁場(chǎng)一起，起到約束等離子體的作用。二次電子飛出靶面后，被垂直靶的陰極位降區(qū)的電場(chǎng)加速。電子在向陽(yáng)極運(yùn)動(dòng)過(guò)程中受磁場(chǎng)作用，作洛侖茲運(yùn)動(dòng)。但是由于兩靶上加有較高的負(fù)偏壓，部分電子幾乎沿直線運(yùn)動(dòng)，到對(duì)面靶的陰極位降區(qū)被減速，然后又被向相反方向加速運(yùn)動(dòng)。這樣二次電子除被磁場(chǎng)約束外，還受很強(qiáng)的靜電反射作用，二次電子被有效的約束封閉在兩個(gè)靶極之間，形成柱狀等離子體。避免了高能電子對(duì)基體的轟擊，使基體溫升很小。電子被兩個(gè)電極來(lái)回反射，大大加長(zhǎng)了電子運(yùn)動(dòng)的路程，增加了和氬氣的碰撞電離幾率，從而大大提高了兩靶間氣體的電離化程度，增加了濺射所需氬離子的密度，因而提高了沉積速率。

圖三、 對(duì)靶磁控濺射原理

圖4為對(duì)靶磁控濺射裝置示意圖。由圖可見(jiàn)，由靶兩側(cè)的磁鐵及輔助電磁線圈產(chǎn)生的通向磁場(chǎng)構(gòu)成對(duì)靶磁控濺射陰極的磁路，兩塊靶材對(duì)向平行放置，靶材表面與磁力線垂直。濺射時(shí)，兩側(cè)靶材同時(shí)施加負(fù)電壓，產(chǎn)生的放電等離子體被局限在兩靶材之間，兩側(cè)靶材被同時(shí)濺射，基片被垂直放置于一對(duì)陰極靶的側(cè)面。由于靶材與磁場(chǎng)垂直，靶材的厚度對(duì)靶材表面磁場(chǎng)的大小及分布影響較小，因此對(duì)靶磁控濺射技術(shù)對(duì)靶材的厚度無(wú)特殊要求，可以超過(guò)10 mm。除此之外，對(duì)靶磁控濺射的靶材濺射溝道平坦，靶材利用率高，可大于70%。

圖四、對(duì)靶磁控濺射裝置示意圖

對(duì)靶磁控濺射系統(tǒng)的缺點(diǎn)是：

1) 由于采用兩個(gè)對(duì)向靶材同時(shí)濺射，陰極結(jié)構(gòu)復(fù)雜、加工成本高、安裝難度大。

2) 與平面磁控濺射不同，對(duì)靶磁控濺射系統(tǒng)因其磁路開(kāi)放，在周圍出現(xiàn)漏磁現(xiàn)象，對(duì)周圍設(shè)備產(chǎn)生磁干擾。

3) 因采用旁軸濺射模式，在濺射過(guò)程中，等離子體對(duì)基片的轟擊較弱，影響薄膜的附著力。

以上就是提升磁控濺射鐵磁性靶材磁場(chǎng)強(qiáng)度的四種方法，但是每種都美中有不足，這就需要我們根據(jù)自己的實(shí)際情況來(lái)選擇適。本文源自真空技術(shù)網(wǎng)，好的技術(shù)文章需要大力傳播分享，希望對(duì)大家學(xué)習(xí)參考有幫助。