紅外薄膜由于其波長范圍廣而具有廣泛的應(yīng)用。隨著科技的發(fā)展，各種鍍膜功能材料和鍍膜工藝逐漸完善，紅外薄膜的也有了很大的提高。目前紅外薄膜在國防軍工、生物技術(shù)、教學(xué)科研、生活應(yīng)用等各個領(lǐng)域逐漸發(fā)展，日趨成熟。

常見的紅外鍍膜材料及其應(yīng)用

鍺，Ge是比較常用且穩(wěn)定的紅外材料，折射率大于4，因而其反射損失將超過50%，鍍增透膜后, 可以顯著提高鍺的透過率，可達98%以上。鍺既可以用于長波紅外也可以用于中波紅外。鍺在長波紅外光學(xué)系統(tǒng)中廣泛使用，但其色散特性在不同波段變化明顯，鍺在3～5μm的阿貝數(shù)為 103，在光學(xué)系統(tǒng)中一般為負組； 而其在8～12μm的阿貝數(shù)卻為864，在光學(xué)系統(tǒng)中一般為正組。在長波段可作為消色差雙透鏡中的冕牌或正元件。在中波段可以作為消色差雙透鏡中的火石或負元件。這種變化來源于鍺材料在這兩個波段的色散特性差異。在中波段鍺很接近其低吸收波段，折射率變化很快，進而導(dǎo)致具有較大色散，這使得鍺在中波段可以作為消色差雙透鏡中的負光焦度元件。


硅，Si的熔點約為1414攝氏度，在1.1um和8um范圍內(nèi)具有良好的光譜特性通過范圍，在近紅外區(qū)的折射率可以達到3.4左右。由于硅具有高熔點、良好的導(dǎo)熱性、高硬度、化學(xué)穩(wěn)定性等特性，因而是一種非常重要的半導(dǎo)體材料。同時，其優(yōu)異的光學(xué)性能和物理化學(xué)性能使其在光學(xué)薄膜的紅外波段應(yīng)用前景廣闊非常廣泛。


氟化鎂，MgF2在3～5um中波紅外波段的紅外透過率可達90 %以上，是現(xiàn)有紅外材料中高的。氟化鎂具有機械強度高、抗熱震性和耐化學(xué)性等諸多特點。氟化鎂廣泛應(yīng)用于紅外制導(dǎo)、紅外成像制導(dǎo)、紅外毫米波微波組合制導(dǎo)，以及飛機紅外吊艙、光電雷達等紅外跟蹤、探測和制導(dǎo)系統(tǒng)。

氧化物薄膜材料，大多數(shù)氧化物材料具有許多相似的特性。如：耐高溫、抗熱震、機械強度高、剛性好等。Al2O3材料作為一種非常常見的高折射率材料被廣泛應(yīng)用于多層介質(zhì)薄膜中。薄膜的光學(xué)特性很大程度上取決于其他因素，例如涂層工藝條件和雜質(zhì)污染。Al2O3材料作為工藝中后一層涂膜，起到保護覆蓋的作用。SiO2薄膜是一種重要的納米薄膜材料，具有寬透光面積（0.15～8um）、低折射率、高硬度、低熱膨脹、耐摩擦、耐酸堿、耐腐蝕等優(yōu)點。廣泛應(yīng)用于光學(xué)薄膜元件、半導(dǎo)體集成電路、電子器件、傳感器、激光器件、化學(xué)催化、生物醫(yī)學(xué)、表面改性、和藥品包裝。

硒化鋅和硫化鋅
ZnS是一種II ~ VI族化合物半導(dǎo)體，在可見光范圍內(nèi)具有高透明度。是一種優(yōu)良的光電功能晶體材料，具有良好的光學(xué)均勻性和多波段傳輸性能，化學(xué)穩(wěn)定性好。

硒化鋅的性質(zhì)與硫化鋅基本相同。不同的是機械強度較低，熔點不如硫化鋅高，在較低溫度下吸收很小。