靶材形狀、純度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和結(jié)合質(zhì)量對大面積鍍膜的質(zhì)量和濺射率有很大影響。今天我們分享濺射靶的晶體尺寸和晶體方向?qū)Υ竺娣e鍍膜的影響。

濺射靶材粒徑對大面積鍍膜的影響
對于相同成分的靶材，晶粒尺寸較小的靶材的沉積速度快于晶粒尺寸較大的靶材。這是因為晶界在濺射過程中更容易受到攻擊。晶界越多，成膜越快。晶粒尺寸的大小影響飛濺速度，影響薄膜質(zhì)量。晶粒尺寸對均勻性的影響很小。結(jié)果表明，采用相同制備工藝制備的四種同種材料的金屬靶材，通過不同的熱處理時間，晶粒尺寸從0.5 mm變化到3.3 mm，發(fā)現(xiàn)薄膜的均勻性沒有差異。因此，晶粒尺寸對薄膜均勻性的影響很小或沒有影響。然而，晶粒尺寸的均勻性將直接影響成膜的均勻性。考慮到靶材的連續(xù)消耗，除了靶材同層的均勻性外，還要考慮靶材厚度方向的均勻性，不同截面的晶粒尺寸盡量一致，以保證均勻性不同時期的成膜情況。圖 1、2顯的 NiCr 濺射靶材的微觀結(jié)構(gòu)比較。從晶相照片可以看出，靶材a的晶粒尺寸和均勻度均優(yōu)于靶材b，濺射薄膜對應(yīng)的靶材a質(zhì)量更高。并且不同截面的晶粒尺寸應(yīng)盡可能一致，以保證不同時期成膜的均勻性。

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