鎂靶材具有與金屬鎂相同的性能，它的密度為 1.738 g/cm3，熔點為650℃，沸點為1091℃，是一種銀白色的輕質(zhì)堿土金屬。金屬鎂具有一定的延展性和熱消散性；具有比較強的還原性，常用做還原劑，去置換鈦、鋯、鈾、鈹?shù)冉饘?；還可用于制造輕金屬合金、球墨鑄鐵、科學(xué)儀器和格氏試劑等；也能用于制煙火、閃光粉、鎂鹽、吸氣器、照明彈等。 鎂濺射靶材可用以真空鍍膜，實驗或研究級別用鎂靶材，電子，光電，軍用，裝飾鍍，功能薄膜等


鎂靶材特征
鎂靶材形狀：平面靶 異型定制
鎂靶材純度：3N5, 4N
鎂靶材尺寸：按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供鎂絲、鎂棒、鎂粒、鎂塊等

鎂靶材制備工藝
制備方法采用3次真空熱處理，有效避免了鎂靶材的氧化現(xiàn)象，得到了晶粒細(xì)小均一的鎂靶材；所述制備方法工藝流程簡單，將鎂錠進行第一真空熱處理，然后在保護性氣氛下進行一次鍛造，一次鍛造后進行冷卻，得到第一鎂坯；將得到的鎂坯進行第二真空熱處理，然后在保護性氣氛下進行二次鍛造，二次鍛造后進行冷卻，得到第二鎂坯；得到的第二鎂坯進行軋制，得到第三鎂坯；將第三鎂坯進行第三次真空熱處理，然后進行冷卻，得到鎂靶材。

鎂靶材應(yīng)用
隨著微電子與光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高純鎂靶材已廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品與光伏鍍膜，以其高純凈度，降低了雜質(zhì)帶來的干擾，提高了產(chǎn)品穩(wěn)定性，延長產(chǎn)品的使用壽命。

鎂金屬材料其他應(yīng)用
1、應(yīng)用于航空航天鎂合金鑄件的生產(chǎn)。　由于產(chǎn)品純度高，雜質(zhì)含量極少，可以減少有害雜質(zhì)對合金成分的干擾，保證添加元素與鎂有效合金化，提高稀土等添加元素的利用率，改善合金產(chǎn)品的組織結(jié)構(gòu)，提高產(chǎn)品性能，并能夠明顯提高產(chǎn)品的耐腐蝕性，延長使用壽命，提高安全性。
2、應(yīng)用于核工業(yè)材料的還原。作為高純材料的還原劑，首先應(yīng)當(dāng)保證還原劑本身的高純凈度，才能避免材料在生產(chǎn)過程中的污染，從而得到高純凈度的產(chǎn)品，因此，高純鎂在核工業(yè)材料的還原生產(chǎn)中，發(fā)揮著相當(dāng)重要的作用。
3、制藥與精細(xì)化工產(chǎn)品。高純鎂還被廣泛應(yīng)用于制藥與精細(xì)化工領(lǐng)域。以高純鎂作為添加劑，能夠更有效地減少重金屬元素給產(chǎn)品帶來的污染，能夠滿足產(chǎn)品安全性的需要，維護人體健康。

鎂靶材其他系列產(chǎn)品
除鎂靶材外，我們還可以提供鋁酸鎂、氧化鎂、鎂鋅氧化物、摻雜鎂的氧化鋅、二硼化鎂、硅化鎂、氟化鎂等陶瓷濺射靶材。同時，還提供鎂顆粒、氧化鎂顆粒、氟化鎂顆粒等鎂的蒸發(fā)材料。