銅錳合金靶材是一種用于磁控濺射鍍膜的金屬靶材,通常由高純金屬錳和銅制成。它還是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的高純?yōu)R射靶材,它在集成電路的金屬互連層、金屬接觸層、擴(kuò)散阻擋層等的制備中發(fā)揮著重要作用。
銅錳靶材特征
銅錳靶材形狀:平面靶、異型定制
銅錳靶材純度:3N
銅錳靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供銅錳合金顆粒、銅錳合金棒、銅錳合金板等。
銅錳合金靶材制備工藝
選擇原料:首先選擇高純度的錳和銅作為原料;
熔煉混合:將銅和錳按照一定的比例混合,在真空條件下熔化后進(jìn)行精煉和澆鑄,冷卻后得到鑄錠;
熱處理:對鑄錠進(jìn)行高溫鍛造開坯,然后進(jìn)行低溫三向鍛造,充分破碎坯料組織。鍛后坯料在一定的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行再結(jié)晶熱處理,獲得細(xì)小的晶粒尺寸;
冷變形與退火:對坯料進(jìn)行多次冷變形和回復(fù)退火,進(jìn)一步細(xì)化晶粒,實(shí)現(xiàn)超細(xì)晶銅錳合金靶材的制備;
機(jī)加工:將經(jīng)過熱處理和冷變形退火后的板坯進(jìn)行矯平,冷卻后,得到的板坯經(jīng)機(jī)加工,終得到銅錳合金靶材。
上圖是銅錳合金靶材的化學(xué)成分分析表
銅錳合金靶材應(yīng)用
半導(dǎo)體器件:銅錳合金靶材在半導(dǎo)體器件制造中用于物理氣相沉積(PVD)濺射鍍膜技術(shù),用于制作集成電路和微芯片。隨著集成電路向更小的制程方向發(fā)展,銅導(dǎo)線工藝因其高器件速度和導(dǎo)電性能而應(yīng)用量增大,銅錳合金靶材需求有望持續(xù)增長。
光學(xué)薄膜:在光學(xué)領(lǐng)域,銅錳合金靶材用于制備具有高化學(xué)穩(wěn)定性和導(dǎo)電性的薄膜,這些薄膜可用于光學(xué)器件的制造。
太陽能電池:在太陽能電池領(lǐng)域,銅錳合金靶材用于PVD鍍膜工藝,用于制備薄膜太陽能電池中的導(dǎo)電層薄膜。
顯示技術(shù):銅錳合金靶材在平板顯示行業(yè)中用于PVD鍍膜,用于制作顯示面板和觸控屏面板。
銅錳合金其他應(yīng)用
電氣行業(yè):由于銅錳合金具有良好的導(dǎo)電性和電阻溫度系數(shù)小等特點(diǎn),可用于制造電子儀器、測量儀表以及其他工業(yè)裝置中的電阻元件。
汽車制造:銅錳合金的機(jī)械強(qiáng)度高,可制成線、箔、片、帶、棒、管等形狀,表面還可以被覆各種絕緣材料,因此也常用于汽車制造。
加熱電纜:錳銅合金的電阻一致性好、穩(wěn)定性能優(yōu),在加熱電纜中被廣泛應(yīng)用。
低壓電器:例如低壓斷路器、熱過載斷路器等低壓電器產(chǎn)品中,銅錳合金是關(guān)鍵材料之一。
其他領(lǐng)域:銅錳合金還可用于制造高強(qiáng)度、抗磨損的零部件,如軸承、齒輪、摩擦材料等。
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