鈷鐵合金靶材主要由鈷（Co）和鐵（Fe）兩種金屬組成，其成分比例可以根據(jù)具體應用需求進行調(diào)整。常見的鈷含量范圍包括5%、10%、15%、50%、60%、70%等。鈷和鐵在合金中是無限固溶的，這意味著它們可以以任意比例混合形成均勻的合金。
鈷鐵靶材特征
鈷鐵靶材形狀：平面靶、異型定制
鈷鐵靶材純度：3N5
鈷鐵靶材尺寸：按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供鈷鐵合金顆粒、鈷鐵合金棒，鈷鐵合金粉末
鈷鐵合金靶材制備工藝
原料準備：選用純度不低于 99.99% 的鈷塊和鐵塊作為基礎(chǔ)原料。根據(jù)目標鈷鐵合金靶材的成分要求，精確稱量鈷和鐵的質(zhì)量。
真空熔煉：將稱好的鈷塊和鐵塊放入熔煉爐的坩堝中。將爐內(nèi)真空度抽到10?3 Pa 以下。首先將原料加熱至 1500 - 1600℃，使鈷和鐵完全熔化。在熔煉過程中，通過電磁攪拌裝置對熔液進行攪拌，攪拌速度控制在 200 - 300 r/min。攪拌的目的是使鈷和鐵充分混合，保證合金成分的均勻性。持續(xù)熔煉 30 - 60 分鐘，確保合金成分達到均勻狀態(tài)。
澆鑄成型：當合金熔液達到均勻狀態(tài)后，將溫度調(diào)整至 1400 - 1450℃，然后緩慢將熔液澆鑄到預熱好的模具中。澆鑄速度控制在 5 - 10 kg/min，避免澆鑄速度過快導致熔液飛濺或產(chǎn)生氣孔。澆鑄完成后，讓模具在自然環(huán)境下緩慢冷卻至室溫。
熱加工：將冷卻后的合金坯料加熱至 1000 - 1100℃，然后在鍛造設(shè)備上進行鍛造。經(jīng)過鍛造后的坯料再進行軋制加工。
機械加工：對熱處理后的鈷鐵合金進行機械加工，制成所需形狀和尺寸的靶材。
鈷鐵合金靶材的應用
半導體制造：在集成電路制造過程中，鈷鐵合金靶材可用于濺射鍍膜工藝，形成金屬互連層、接觸層或阻擋層。
裝飾鍍膜：用于鐘表、首飾等，具有良好的耐磨性和美觀性。
低電阻薄膜：用于電子器件，制造低電阻薄膜材料。
工具鍍薄膜：提高工具的硬度、耐磨性、抗腐蝕性或降低摩擦系數(shù)。
鈷鐵合金其他應用
磁性材料：鈷鐵合金靶材因其高導磁性，被用于制造各種磁性材料，如永磁體、電磁鐵和磁性傳感器。
電子工業(yè)：在電子工業(yè)中，鈷鐵合金靶材用于濺射鍍膜，制造電子設(shè)備的磁性部件和導電部件。
航空航天領(lǐng)域：由于其高強度和耐腐蝕性，鈷鐵合金靶材被用于制造航空航天領(lǐng)域的高強度部件。
電機和發(fā)電機：鈷鐵合金用于制造電機和發(fā)電機的磁鐵，提供高效的磁能轉(zhuǎn)換。
化工設(shè)備：鈷鐵合金的耐腐蝕性使其在化學工業(yè)中作為耐蝕材料使用，如泵、閥門和管道。
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