鈷鋯鉭靶材是一種由鈷（Co）、鋯（Zr）、鉭（Ta）組成的多元合金靶材，一般來說， 鈷的含量范圍在80-90wt%，鋯的含量范圍在10-15wt%，鉭的含量在5-10wt%。廣泛應(yīng)用于磁記錄、微電子器件等領(lǐng)域。

鈷鋯鉭合金靶材特征
鈷鋯鉭合金靶材形狀：平面靶 異型定制
鈷鋯鉭合金靶材純度：3N5
鈷鋯鉭合金靶材尺寸：按圖紙加工或者定制
我們還可以提供鈷鋯鉭合金顆粒、鈷鋯鉭合金棒，鈷鋯鉭合金粉末

鈷鋯鉭合金靶材制備方法
按照靶材所需的配比稱量Co、Zr和Ta原材料,將原材料裝入磁懸浮感應(yīng)熔煉爐的水冷坩堝內(nèi),得到混合物料;
將磁懸浮感應(yīng)熔煉爐抽至真空后,充入保護氣體洗爐再次抽真空,隨后充入新的保護氣體,讓混合物料在真空環(huán)境下加熱到 1300~1450°℃,持續(xù)時間為 8~12min 進行熔煉,然后升溫至1500℃使混合物料全部熔化,后冷卻至室溫后得到合金錠；
將合金錠置于真空感應(yīng)熔煉爐的氧化物坩堝內(nèi),真空感應(yīng)熔煉爐抽至真空后充入新的保護氣體,讓合金錠在真空環(huán)境下加熱到1250~1350℃。使合金錠全部熔化,再進行持續(xù)時間為 3~5min 的精煉后得到合金熔體；
開啟澆鑄系統(tǒng),使用漏斗控制澆鑄速度,對模具進行澆鑄,澆鑄完成后將熔體冷卻至室溫后得到鑄錠；
將鑄錠加熱后進行軋制,每完成需軋制總變形量的10~20%的軋制工作后,重新加熱再進行軋制,如此循環(huán)直至完成軋制工作,后冷卻得到靶坯；

鈷鋯鉭合金靶材的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：用于物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）工藝，形成薄膜擴散屏障，保護銅互連。
光學(xué)鍍膜：用于制造高透光率和耐磨性的薄膜，應(yīng)用于光學(xué)器件和顯示屏。
電子工業(yè)：鈷鋯鉭合金靶材可用于電子工業(yè)中的濺射鍍膜工藝，用于制造集成電路、導(dǎo)電路徑和接觸點。

鈷鋯鉭合金的應(yīng)用領(lǐng)域
高溫應(yīng)用：由于其高熔點和高溫穩(wěn)定性，鈷鋯鉭合金靶材適用于高溫環(huán)境下的部件，如高溫爐的加熱元件。
航空航天領(lǐng)域：鈷鋯鉭合金的高強度和耐高溫特性使其適用于航空航天領(lǐng)域的零部件。
化工設(shè)備：鈷鋯鉭合金的耐腐蝕性使其適用于制造化工設(shè)備的部件，如泵、閥門和管道。
醫(yī)療領(lǐng)域：鋯和鉭的生物相容性使其在醫(yī)療植入物中有潛在的應(yīng)用，鈷鋯鉭合金也可能用于制造某些醫(yī)療器械。

感謝您閱讀鈷鋯鉭合金靶材定義、特性、制備方法和應(yīng)用，希望大家能對鈷鋯鉭合金靶材有更好的了解。如果您想了解更多關(guān)于金屬科研材料的信息，請收藏我們的網(wǎng)站鑫康新材料靶材生產(chǎn)廠家http://1230580.cn/。