半導(dǎo)體材料可分為晶圓材料和封裝材料。與晶圓制造材料相比,包裝材料的技術(shù)壁壘相對(duì)較低,因此我們主要討論晶圓制造材料。硅片的生產(chǎn)主要涉及7種半導(dǎo)體材料和化學(xué)藥品,每種在半導(dǎo)體材料市場(chǎng)中所占的比例如下:硅片占33%;硅片占33%。特種氣體,占17%;口罩板,15%; 超凈高純度試劑,占13%;拋光液和拋光墊,7%;光刻膠材料,7%;靶材,3%。
今天,我們主要討論的是靶材,在半導(dǎo)體材料市場(chǎng)中所占的比例約為3%。靶材是高速帶電粒子轟擊的目標(biāo)。通過(guò)更改不同的靶材(例如鋁,銅,不銹鋼,鈦,鎳靶等),可以獲得不同的膜系統(tǒng)(例如超硬,耐磨,防腐蝕合金膜等)。
根據(jù)化學(xué)成分的不同,靶材可分為金屬靶材(純金屬鋁,鈦,銅,鉭等),合金靶材(鎳鉻合金,鎳鈷合金等)和陶瓷復(fù)合靶材(氧化物,硅化物,碳化物,硫化物等);根據(jù)不同的應(yīng)用領(lǐng)域,可以分為半導(dǎo)體芯片靶材,平面顯示器靶材,太陽(yáng)能電池靶材,信息存儲(chǔ)靶材,工具改性靶材,電子器件靶材以及其他靶材。
半導(dǎo)體的內(nèi)部由數(shù)萬(wàn)米的金屬布線組成,靶材是制造這些布線的主要消耗材料。以蘋果公司的A10處理器為例,該芯片的芯片大小只有一個(gè)釘子,上面釘有數(shù)萬(wàn)米的金屬絲,必須將這些金屬絲濺到高純度的金屬靶上。濺射靶材是半導(dǎo)體晶圓制造的核心,芯片對(duì)濺射靶材的要求很高,要求靶材的純度高,通常超過(guò)99.999%。