鑫康新材料有限公司是定制制造濺射靶材的專家。公司可以提供全系列的濺射靶材,包括從工業(yè)級到超高純度的各種成分。也可以提供一些附加服務(wù)器,包括綁定,背板。公司始終堅(jiān)持研發(fā)制造技術(shù),以提供更多的價(jià)值和更好的產(chǎn)品。
濺射靶材的制造方法:
鑫康有很多制造方法,可用的方法如下所示:真空感應(yīng)熔煉(VIM),真空感應(yīng)懸浮熔煉爐真空燒結(jié),真空熔鑄,真空電弧熔煉,熱壓(HP),熱等靜壓(HIP),冷等靜壓(CIP),冷壓和燒結(jié),F(xiàn)Z,CZ,CVD……現(xiàn)在我們的等離子噴涂技術(shù)正在研究和改進(jìn)中,我們將提供一些樣品。
背板和粘接服務(wù): 背板包括OFHC銅,鋁,鈦,不銹鋼或鉬。尺寸將根據(jù)您的圖紙進(jìn)行設(shè)計(jì)。
粘接服務(wù)
背面金屬化處理,大可達(dá)1600 x 1000mm
金屬和非金屬粘接覆蓋率> 98%的
粘接完整性超聲波c掃描
濺射靶的形狀和大?。簣A盤,矩形,臺階,板,片,管,箔,棒,錐度,環(huán),S型槍,定制。
圓盤靶,柱靶,階梯晶片靶(直徑<350mm,厚度> 1mm)
矩形靶,切片靶,階梯矩形靶(長度<1500mm,Witdh <300mm,厚度> 1mm)
管狀靶/旋轉(zhuǎn)濺射靶(外徑< 300mm,厚度> 2mm)
濺射靶材列表(根據(jù)應(yīng)用) :
半導(dǎo)體相關(guān)靶材/電極和導(dǎo)線的薄膜布置: 鋁靶材,銅靶材,金靶材,銀靶材,鈀靶材,鉑靶材,硅硅鋁靶材,硅鋁硅銅合金靶材等。
包膜電極薄膜: 鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材等;
凝集薄膜: 鎢靶材,鈦靶材等。
絕緣薄膜: PbTiZrO3靶材等。
具有磁性薄膜磁記錄的硬盤: CoCrTa合金靶材,CoCrPt合金靶
材 ,CoCrTaPt合金靶材...
薄膜磁頭: CoTaCr合金靶材,CoCrZr合金靶材...
天然晶體膜: CoPt合金靶材,CoPd合金靶材...
相變光盤記錄膜: TeSe靶材,SbSe靶材,GeSbTe靶材,GeTe合金靶材...
磁盤磁光記錄膜: TbDyCo合金靶材,TbDyFe靶材,Al2Oe靶材,MgO靶材,SiN靶材...
CD反射膜: 鋁靶材,AlTi合金靶材,AlCr靶材,金靶材,金合金靶材...
CD保護(hù)膜: SiN靶材,SiO2靶材,ZnS靶材...
平面顯示器用透明導(dǎo)電膜: ITO靶材,AZO靶材,二氧化硅靶材,鈦靶材,鉻靶材...
顯示配線膜電極: 鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材,鉭靶材,鉻靶材,鋁靶材,鋁鈦合金靶材,AlTa合金靶材,鋁釹合金靶材,AlNd合金靶材...
顯示薄膜電致發(fā)光: ZnS摻雜的Mn靶,ZnS摻雜的Tb靶,ZnS摻雜的Eu靶,Y2O3靶,Ta2O5靶,BaTiO3靶...
裝飾膜: 鈦靶,鋯靶,鉻靶,TiAl靶,SS靶...
低電阻膜: NiCr靶,NiCrSi合金靶,NiCrAl靶,NiCu合金靶...
超導(dǎo)薄膜: YBCO靶(YBaCuO靶),BiSrCaCuO靶...
工具鍍膜: 氮化物靶,碳化物靶,硼化物靶,Cr靶,Ti靶,TiAl合金靶,Zr靶,石墨靶,鋁99.99%,鉻99.5%,鎳/鉻99.5%,鎳和合金99.5%,鎢碳化物C:0.4%,鈦及合金(TiAL,TiALY)99.5%,鋯99.5%
薄膜太陽能電池:硅濺射靶材,砷化鎵(GaAs)99.999%,ITO 99.99%,鈦金屬99.9%,鋁氧化鋅(AZO)99.99%,氧化鋅(ZnO)99.99%二氧化硅(SiO2)99.99%,氧化鈦(TiO2)99.99%,鉬99.9%,鎳/鉻(80:20)99.5%,NiV靶材,鉻靶99.5?99.9%,碲化鎘(CdTe)99.999%,硫化鎘(CdS)99.99%, 99.999%,鉑(Pt)99.99%,GaSe靶材,GaS靶材,CuGa靶材,CuIn靶材,CuInGaSe(CIGS)99.99%,CuInSe(CIS)99.99%,ZnAl合金濺射靶,CIG濺射靶(5N)
濺射靶材料清單:
金屬濺射靶材: 鋁(Al),銻(Sb),鉍(Bi),硼(B),鎘(Cd),鈰(Ce),鉻(Cr),鈷(Co),銅(Cu),s(Dy), (Er),Euro(Eu),Ga(Gd),鍺(Ge),金(Au),石墨,碳(C),Ha(Hf),Hol(Ho),銥(Ir),銦( In),鐵(Fe),鑭(La),鉛(Pb),L(Lu),錳(Mn),鉬(Mo),鎂(Mg),釹(Nd),鈮(Nb),鎳( Ni),鈀(Pd),鉑(Pt),Pra(Pr),hen(Re),釕(Ru),Sa(Sm),Scan(Sc),硒(Se),硅(Si),銀( Ag),鉭(Ta),b(Tb),碲(Te),錫(Sn),Th(Tm),鈦(Ti),鎢(W),釩(V),Y(Yb),釔( Y),鋯(Zr),鋅(Zn);
合金濺射靶材:AlCu,AlCr,AlMg,AlNd,AlSi,AlSiCu,AlAg,AlV,CaNiCrFe,CaNiCrFeMoMn,CeGd,CeSm,CrSi,CoCr,CoCrMo,CoFe,CoFeB,CoNi,CoNiCr,CoPt,CoNbZr,CoTaZr,CoZr,CrV,Cr CrSi,CrCu,CuCo,CuGa,CuIn,CuNi,CoNiPt,CuZr,DyFe,DyFeCo,F(xiàn)eB,F(xiàn)eC,F(xiàn)eMn,GdFe,GdFeCo,HfFe,IrMn,IrRe,InSn,MoNb,MoSi,NiAl,NiCr,NiCrSi,NdDyFeCo, NiFe,NiMn,NiNbTi,NiTi,NiV,SmCo,AgCu,AgSn,TaAl,TbDyFe,TbFe,TbFeCo,TbGdFeCo,TiAl,TiNi,TiCr,WRe,WTi,WCu,ZrAl,ZrCu,ZrFe,ZrNb,ZrNi,ZrTi, ZrY,ZnAl,ZnMg,其他定制合金靶材;
陶瓷濺射靶材:
硼化物陶瓷濺射靶材: Cr2B,CrB,CrB2,Cr5B3,F(xiàn)eB,HfB2,LaB6,Mo2B,Mo2B5,NbB,NbB2,TaB,TaB2,TiB2,W2B,WB,VB,VB2,ZrB2,其他摻雜的bo陶瓷靶材
碳化物陶瓷濺射靶材: B4C,Cr3C2,HfC,Mo2C,NbC,SiC,TaC,TiC,WC,W2C,VC,ZrC,其他摻雜的碳化物陶瓷靶材
氟化物陶瓷濺射靶材: AlF3,BaF3,CdF2,CaF2,CeF3,DyF3,ErF3,HfF4, KF,LaF3,PbF2,LiF,PrF3,MgF2,NdF3,ReF3,SmF3,NaF,冰晶石,Na3AlF6,SrF2,ThF4,YF3,YbF3,其他摻雜的氟化物陶瓷靶材
氮化物陶瓷濺射靶材: AlN,BN,GaN,Hf NbN,Si3N4,TaN,TiN,VN,ZrN,其他摻雜氮化物陶瓷靶材;
氧化物陶瓷濺射靶材: Al2O3,Sb2O3,ATO,BaTiO3,Bi2O3,CeO2,CuO,Cr2O3,Dy2O3,Er2O3,Eu2O3,Gd2O3,Ga2O3,GeO2,HfO2,Ho2O3,In2O3,ITO,F(xiàn)e2O3,F(xiàn)e3Ob,F(xiàn)e3Ob,F(xiàn)e3Ob,La3O4, Lu2O3,MgO,MoO3,Nd2O3,Pr6O11,Pr(TiO2)2,Pr2O3,Sm2O3,Sc2O3,SiO2,SiO,SrTiO3,SrZrO3,Ta2O5,Tb4O7,TeO2,ThO2,Tm2O3,Ti2TiO,Sn2O3,TiO2,TiO2, SnO,WO3,V2O5,YAG,Y3Al5O12,Yb2O3,Y2O3,ZnO,ZnO:Al,ZrO2(不穩(wěn)定),ZrO2-5-15wt%CaO)和其他多元素氧化物靶材;
硒化陶瓷濺射靶材: Bi2Se3,CdSe,CuSe,Ga2Se3,In2Se3,PbSe,MoSe2,NbSe2,TaSe2,WSe2,ZnSe,其他摻雜的棕鋁靶材;
硅化物陶瓷濺射靶材: Cr3Si,CrSi2,CoSi2,HfSi2,MoSi2,NbSi2,TaSi2,Ta5Si3,TiSi2,Ti5Si3,WSi2,V3Si,VSi2,ZrSi2,其他摻雜硅化物陶瓷靶材;
硫化物陶瓷濺射靶材: AgS,Ag2S,CuS,Cu2S,Sb2S3,As2S3,CdS,F(xiàn)eS,GaS,GeS,PbS,SnS,In2S3,MoS2,NbS1.75,TaS2,WS2,ZnS,其他摻雜的sulfide陶瓷靶材;
碲化物陶瓷濺射靶: Al2Te3,Bi2Te3,CdTe,CuTe,Ga2Te3,GeTe,PbTe,MoTe2,NbTe2,TaTe2,TmTe,WTe2,ZnTe,其他摻雜的碲化物陶瓷靶材;
定制濺射靶材: AZO,Cr-SiO,CIGS,ITO,IGZO,GaAs,Ga-P,GaSb,In-Sb,InAs,InP,InSn,LSMO,Na3AlF6,YBCO,LCMO,YSZ,GeSbTe等定制濺射靶材;