關(guān)于 ITO 濺射靶材你需要知道的一切

ITO的全稱是氧化銦錫，是由不同比例的銦、錫和氧組成的。ITO和ITO濺射靶的物質(zhì)是一樣的，后者實(shí)際上是氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。

ITO濺射靶材的制作方法
目前，制備ITO靶材的成型方法主要有四種，每種方法在具體應(yīng)用中各有優(yōu)勢(shì)。

真空熱壓
真空熱壓利用熱能和機(jī)械能對(duì)ITO粉體進(jìn)行致密化，可生產(chǎn)出密度為91%～96%的高密度ITO陶瓷靶材。該方法可以輕松獲得接近預(yù)期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受設(shè)備和模具尺寸的限制，真空熱壓在制備大尺寸濺射靶材方面優(yōu)勢(shì)較小。

熱等靜壓
熱等靜壓 (HIP)通過在壓力下燒結(jié)或在高溫下加壓來制備ITO 濺射靶。與真空熱壓類似，HIP在加熱和加壓狀態(tài)下可以獲得高密度（幾乎是理論密度）和優(yōu)異的物理和機(jī)械性能的產(chǎn)品。但也受設(shè)備壓力和氣缸尺寸的限制。

常溫?zé)Y(jié)
室溫?zé)Y(jié)是先通過漿料澆注或預(yù)壓制備高密度靶材預(yù)制件，然后在一定氣氛和溫度下燒結(jié)得到ITO靶材。其大的優(yōu)勢(shì)在于能夠生產(chǎn)大尺寸的濺射靶材。但與其他燒結(jié)方法相比，這種方法制成的靶材純度較低。

冷等靜壓
冷等靜壓（CIP）在常溫下以橡膠或塑料為覆模材料，以液體為壓力介質(zhì)傳遞超高壓。CIP還可以制備更大尺寸的ITO濺射靶材。而且價(jià)格便宜，適合大批量生產(chǎn)。但CIP要求材料在0.1~0.9 MPa的純氧環(huán)境中經(jīng)過1500~1600°C的高溫?zé)Y(jié)，具有較高的風(fēng)險(xiǎn)。

ITO靶材、ITO薄膜、ITO導(dǎo)電玻璃
這三個(gè)詞是相互關(guān)聯(lián)的。簡(jiǎn)而言之，ITO導(dǎo)電玻璃是通過濺射或蒸發(fā)在一塊超薄玻璃上鍍上一層ITO薄膜制成的。這里，ITO靶是提供氧化銦錫原子的源；當(dāng)這些氧化銦錫原子沉積在基板（玻璃）上時(shí)得到ITO薄膜，涂有ITO薄膜的玻璃稱為ITO導(dǎo)電玻璃。

ITO 濺射靶材應(yīng)用

ITO濺射靶材及其衍生品如ITO薄膜、ITO玻璃等，在各行各業(yè)有著廣泛的應(yīng)用。ITO靶材常用于制造液晶顯示器（LCD）、平板顯示器、等離子顯示器和觸控面板等顯示器的透明導(dǎo)電涂層。ITO薄膜用于有機(jī)發(fā)光二極管、太陽能電池和抗靜電涂層。除了電子工業(yè)，ITO 靶材還用于各種光學(xué)鍍膜，著名的是紅外反射鍍膜和汽車用鈉蒸汽燈玻璃。

發(fā)展趨勢(shì)
ITO靶材的未來是繁榮的，但仍有一些困難需要克服。ITO靶材 的發(fā)展趨勢(shì)可以歸納為四點(diǎn)：
1）大尺寸；
2) 電阻率低；
3) 高密度和；
4）利用率高。

第4點(diǎn)一直是該領(lǐng)域的熱點(diǎn)和難點(diǎn)之一。目前，平面靶材由于具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、通用性強(qiáng)、均勻性好等多重優(yōu)勢(shì)，仍然在濺射鍍膜行業(yè)占據(jù)主導(dǎo)地位。但平面靶材利用率低。近來，濺射靶材制造商正在積極研發(fā)一種新型的濺射靶材（如旋轉(zhuǎn)靶材），以實(shí)現(xiàn)高利用率。

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