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鉭靶材在微電子領域的應用



鉭(Ta)濺射靶材


由于鉭具有形成氧化物薄膜的能力,具有保護作用,因此鉭靶材被廣泛用作制造電解電容器的基材。本次介紹了鉭濺射靶材在微電子領域的應用。

用于熱噴墨打印頭應用的鉭靶材

熱噴墨打印頭可用于薄膜集成電路的制造,這有利于鉭靶的使用。在集成電路的制造過程中,利用薄膜電阻器以接近1.28E9瓦特/米2的能量密度快速加熱油墨的膜層,使部分極小的油墨蒸發(fā)形成延伸氣泡,實際上是噴出的小墨滴。由于高溫油墨會在一些噴墨打印設備中引起空化,因此使用鉭防空化膜可以保護油墨設施。


 鉭靶材


鍍銅用鉭靶材
鉭薄膜在集成電路制造工藝中優(yōu)勢明顯,鉭濺射靶材使用的一大進步是鍍銅的應用. 光刻膠掩模和等離子蝕刻技術不能用于形成銅,因為銅在低溫等離子蝕刻條件下不會形成所需的揮發(fā)性成分。由于銅具有高導電性,阻擋膜必須能夠完全隔離銅。但是,如果阻擋膜太厚,就會失去銅互連的高導電優(yōu)勢。因此,重要的是鍍銅方案中阻擋膜的沉積具有良好的階梯覆蓋,并且在通道/溝槽空隙處要減少突起。在替代0.10um銅集成電路中,鉭和一氧化氮PVD阻隔膜顯示出一些獨特的優(yōu)勢,如良好的銅擴散性以及對電解液和銅的良好附著力。

以上談到的鉭靶在熱噴墨打印頭和鍍銅中的應用。鉭是微電子行業(yè)的一種潛在材料,這些只是鉭濺射靶材應用的一部分。如果您對此話題感興趣,請關注我們的公眾號:xinkang11111,我們會定期更新有關濺射靶材的知識。如果您需要咨詢靶材相關價格或者問題請聯(lián)系我們。


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