為什么選擇圓柱平面濺射靶材

常見的靶材形狀是平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材。從名字我們就可以想象它們的樣子，如下圖。

這兩種形狀的靶材各有優(yōu)缺點，詳情請參考平面靶和旋轉(zhuǎn)靶的優(yōu)缺點。今天我們介紹的重點主要是圓柱平面濺射靶材，它是一種新型的濺射靶材，應(yīng)用市場非常廣闊。

將矩形平面磁控靶材的結(jié)構(gòu)原理應(yīng)用于圓柱形磁控濺射靶材，從而將磁控濺射靶設(shè)計為圓柱形平面磁控濺射靶。它綜合了平面矩形靶材和同軸圓柱靶材的優(yōu)點，涂層均勻性好，靶材利用率高。圓柱形平面濺射靶材的形狀如上圖所示。

與其他形式的磁控濺射靶材相比，圓柱形平面磁控濺射靶材不僅保持了矩形平面靶鍍層的均勻性，而且通過以下兩種方式大限度地提高了靶材的利用率：
(1)當靶材表面環(huán)形坑達到一定深度時，靶芯（磁鐵部分）可相對靶管轉(zhuǎn)動，使靶管上未使用的區(qū)域得到利用；
(2)圓柱、平面磁控濺射靶材的靶芯設(shè)計為使靶芯旋轉(zhuǎn)（濺射時靶材在旋轉(zhuǎn)）時，靶材表面可逐層均勻濺射，不會有凹坑。這時候靶材會得到有效的利用，靶材的利用率可以達到50%到60%。當目標是貴金屬材料時，這無疑具有重要意義。

圓柱平面濺射靶材無疑優(yōu)于傳統(tǒng)平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材。未來很可能會不斷開發(fā)出更具優(yōu)勢的靶材形狀，靶材市場潛力無窮。鑫康公司是金屬、合金、氧化物、陶瓷材料等各種濺射靶材的全球供應(yīng)商。我們承諾為您提供滿意的服務(wù)。如果有相關(guān)靶材的問題可以關(guān)注我們的公眾號：xinkang11111，或者向我們咨詢。

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