金屬鈦和鈦濺射靶在本質(zhì)上是一樣的，都是由鈦元素組成的；不同的是，金屬鈦更像是一種原材料，而鈦靶材更像是一種鈦制品。以鈦為原料，可通過多種方法制成鈦濺射靶材，主要用于各種鍍膜，如平板顯示、玻璃及裝飾鍍膜、太陽能鍍膜等。要了解鈦靶，首先要了解鈦。

鈦的發(fā)現(xiàn)，離不開以下三個(gè)人：

· 英國的業(yè)余礦物學(xué)家威廉·格雷戈?duì)柲翈熓堑谝粋€(gè)發(fā)現(xiàn)含鈦礦物的人。
· 灣 馬丁·海因里希·克拉普羅特（Martin Heinrich Klaproth）使用希臘語“泰坦尼克號(hào)”（Titanic）將元素命名為“鈦”。
· 美國化學(xué)家馬修·A·亨特(Matthew A. Hunter)用鈦還原TiCl，生產(chǎn)出純度為99.9%的金屬鈦。這是人類第一次獲得純鈦。

鈦屬性

鈦濺射靶材與其源材料具有相同的特性。鈦元素在地殼中分布廣泛（約0.4%）。世界鈦儲(chǔ)量約34億噸，在所有元素中排名第9位。鈦是一種具有很高商業(yè)價(jià)值的材料，因其強(qiáng)度高、耐腐蝕性好、耐熱性好等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車制造、醫(yī)療衛(wèi)生等日常生活領(lǐng)域。鈦的耐蝕性主要表現(xiàn)在鈦在常溫下不與空氣發(fā)生反應(yīng)。但在實(shí)際生產(chǎn)環(huán)境中，鈦仍會(huì)發(fā)生不同種類的腐蝕.

鈦濺射靶材定義

“鈦濺射靶材”中的“靶”一詞來源于我們?nèi)粘Ｉ钪谐Ｒ姷纳鋼舭?。在濺射沉積過程中，鍍層材料受到電子束或離子束的轟擊，就像靶材被擊中一樣，因此濺射工藝中使用的材料被稱為“濺射靶材”。

從金屬鈦到鈦濺射靶

鈦濺射靶材是一種由金屬鈦制成的鈦制品，用于濺射鍍膜以生產(chǎn)鈦薄膜。簡單地說，用金屬鈦制作鈦濺射靶材有兩種方法。1.鑄造將一定分配比的原料熔化，將合金溶液倒入模具中形成鑄錠，后加工成為濺射靶。該方法在真空中熔煉和鑄造；2.粉末冶金：將一定分配比的原料熔化，鑄成錠然后粉碎，等靜壓粉末，然后高溫?zé)Y(jié)，終形成靶材。

鈦濺射靶材的基本要求

一般來說，在衡量濺射靶材是否滿足一級(jí)要求時(shí)，會(huì)考慮以下指標(biāo)：
純度：純度對(duì)濺射鍍膜的薄膜性能影響很大。以鈦靶為例，純度越高，濺射薄膜的耐腐蝕性和電學(xué)性能越好。
雜質(zhì)含量：靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水蒸氣是沉積膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)其雜質(zhì)含量有不同的要求。
密度：靶材的密度不僅會(huì)影響濺射速率，還會(huì)影響薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。因此，為了減少靶材固體中的孔隙，改善濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有更高的密度。
晶粒尺寸和晶粒尺寸分布（詳細(xì)分析）：對(duì)于相同的靶材，細(xì)晶靶材的濺射速度比粗晶靶材快；晶粒尺寸差異較小(分布均勻)的靶濺射沉積膜的厚度更均勻。
以上指標(biāo)作為濺射靶材的基本要求。不同應(yīng)用對(duì)鈦靶材的具體要求，請(qǐng)參考我們之前的文章鈦靶材的應(yīng)用和要求。

希望這篇文章可以幫助您更多地了解鈦濺射靶材。我們是濺射靶材制造商，如果您對(duì)靶材有任何疑問，可以進(jìn)入我們的產(chǎn)品頁面了解更多信息，或直接向我們發(fā)送詢問。

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