銅鋁合金（Cu-Al合金）靶材是一種廣泛應(yīng)用于薄膜制備領(lǐng)域的濺射靶材，通過調(diào)整銅和鋁的比例（常見如Cu90Al10、Cu50Al50等），可滿足不同應(yīng)用場(chǎng)景對(duì)材料性能的需求。
銅鋁靶材制備工藝
熔煉法：真空環(huán)境下熔煉銅鋁，確保成分均勻，減少雜質(zhì)（氧含量通?？刂圃?lt;0.1%）。
粉末冶金：適用于高鋁含量合金，通過壓制燒結(jié)實(shí)現(xiàn)致密化（密度可達(dá)理論值的95%以上）。
銅鋁合金靶材應(yīng)用領(lǐng)域
電子薄膜：用于制備集成電路的導(dǎo)電層或阻擋層（如芯片中的銅互連技術(shù)）。
光學(xué)涂層：在太陽能電池或建筑玻璃中作為反射層，鋁含量高時(shí)增強(qiáng)耐候性。
耐磨涂層：工具、軸承表面鍍膜，提升壽命（如Cu??Al??靶材用于高硬度涂層）。
科研領(lǐng)域：研究合金薄膜的相變、磁性等特性。
廠房地址：湖南省瀏陽市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)永泰路創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A4-1棟
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