鋁鋯合金靶材是一種由鋁和鋯為主要成分，通過合金化處理制得的靶材，主要用于物理氣相沉積（PVD）等薄膜制備工藝中，作為濺射或蒸發(fā)源。
鋁鋯關鍵特性與優(yōu)勢
優(yōu)異的抗氧化和耐腐蝕性：鋯具有極強的化學惰性和鈍化能力，形成的氧化鋯保護膜能極大提升薄膜和基底的抗氧化和耐腐蝕性能。鋁也具有良好的耐蝕性。
高的熱穩(wěn)定性：鋯的熔點很高（約1852°C），與鋁形成共晶或金屬間化合物后，能顯著提高薄膜的熔點和再結晶溫度，使其在高溫環(huán)境下保持結構穩(wěn)定和性能不退化。
良好的硬度和耐磨性：鋯及鋁鋯金屬間化合物本身具有較高的硬度，形成的薄膜也具有較好的耐磨性能。
適中的導電性：純鋁導電性極佳，添加鋯后會降低導電性，但鋁鋯合金薄膜（特別是鋯含量較低時）的導電性仍然顯著優(yōu)于純陶瓷薄膜，這對某些電子應用（如電極）很重要。
良好的機械性能和薄膜附著力：合金薄膜通常比純金屬或純陶瓷具有更優(yōu)的內(nèi)應力控制和膜基結合力。
調(diào)整性強： 通過改變鋁鋯的比例，可以精確調(diào)控薄膜的物理化學性能（如導電率、顏色、硬度、抗氧化溫度等）以滿足不同應用場景。
鋁鋯合金靶材制備工藝
真空熔煉澆鑄：將高純度的鋁和鋯原料按一定比例放入真空熔煉爐中，在高溫下熔煉使其充分合金化，然后澆鑄成型。但該方法在澆鑄過程中容易產(chǎn)生縮孔、疏松和宏觀偏析等問題。
粉末冶金：先將鋁粉和鋯粉按比例混合均勻，然后通過壓制、燒結等工藝制成靶材。這種方法可以制備出成分均勻、密度較高的靶材，但生產(chǎn)過程較為復雜，成本相對較高。
熱等靜壓：將經(jīng)過初步加工的靶坯放入熱等靜壓設備中，在高溫高壓下使其致密化，可有效提高靶材的密度和性能，改善組織均勻性，能夠滿足大尺寸靶材的生產(chǎn)需求。
鋁鋯合金靶材主要應用領域
半導體工業(yè)：用于制備集成電路中的導電層或阻擋層。
光學涂層：制造高反射膜、抗腐蝕膜（如望遠鏡鏡面、手機屏幕）。
耐磨涂層：工具、模具表面鍍膜以延長壽命。
新能源：太陽能電池的電極或反射層。
航空航天：發(fā)動機部件的高溫防護涂層。
廠房地址：湖南省瀏陽市高新技術開發(fā)區(qū)永泰路創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A4-1棟
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