鋁鎂合金靶材是由高純鋁（Al）和鎂（Mg）按照一定比例組成的合金靶材，通過(guò)真空熔煉工藝制備，廣泛應(yīng)用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體、顯示技術(shù)和功能涂層等領(lǐng)域。
鋁鎂合金靶材參數(shù)
純度：3N
尺寸：5X5X15mm，D75.95x2mm 按規(guī)格定制
鋁鎂合金靶材優(yōu)點(diǎn)
輕量化：鋁鎂合金密度低，適合需要減重的應(yīng)用場(chǎng)景。
高比強(qiáng)度：強(qiáng)度與重量比優(yōu)于純鋁或純鎂。
耐腐蝕性：鎂的加入可提升鋁的抗氧化和耐腐蝕性能。
良好導(dǎo)電/導(dǎo)熱性：適合電子器件中的導(dǎo)電或散熱涂層。
鋁鎂合金靶材制備工藝
真空熔煉澆鑄：將高純度的鋁和鋯原料按一定比例放入真空熔煉爐中，在高溫下熔煉使其充分合金化，然后澆鑄成型。但該方法在澆鑄過(guò)程中容易產(chǎn)生縮孔、疏松和宏觀偏析等問(wèn)題。
粉末冶金法：將鋁粉和鎂粉按照預(yù)定比例混合均勻，然后在高壓下將混合粉末壓制成所需形狀的坯體，后在高溫下進(jìn)行燒結(jié)，使粉末顆粒之間發(fā)生擴(kuò)散和結(jié)合，形成致密的鋁鎂合金靶材。
熔煉鑄造法：把高純鋁和鎂放入熔爐中，加熱至一定溫度使其熔化并充分混合，然后將熔融合金倒入模具中冷卻凝固，得到鋁鎂合金鑄錠，再經(jīng)過(guò)后續(xù)的加工處理，如鍛造、軋制、機(jī)械加工等，制成符合要求的靶材。
鋁鎂合金靶材主要應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體工業(yè)：用于制備集成電路中的導(dǎo)電層或阻擋層。
光學(xué)鍍膜：用于制備反射鏡、濾光片等，鎂的加入可調(diào)節(jié)膜層的折射率和穩(wěn)定性。
半導(dǎo)體：作為電極或阻擋層材料，尤其適合對(duì)輕量化要求高的器件。
顯示技術(shù)：用于OLED或LCD的電極鍍膜，改善導(dǎo)電性和柔韌性。
防腐涂層：在航空航天或汽車(chē)部件表面形成耐腐蝕保護(hù)層。
新能源：鋰離子電池集流體或固態(tài)電池界面層的制備。
廠房地址：湖南省瀏陽(yáng)市高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)永泰路創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A4-1棟
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