半導(dǎo)體材料可分為晶圓材料和封裝材料。與晶圓制造材料相比,封裝材料的技術(shù)壁壘相對(duì)較低,所以我們主要討論晶圓制造材料。晶圓生產(chǎn)主要涉及7種半導(dǎo)體材料和化學(xué)品,在半導(dǎo)體材料市場(chǎng)上各占比如下:硅片占33%;特種氣體占17%;掩模板占15%;超凈高純?cè)噭┱?3%;拋光液和拋光墊占7%;光刻膠材料占7%;濺射靶占3%。
今天我們主要講的是濺射靶材,在半導(dǎo)體材料市場(chǎng)上的比重約為3%。濺射靶材是高速帶電粒子轟擊的靶材。通過(guò)改變不同的靶材料(如鋁、銅、鉭、鈦、鎳等)可以得到不同的功能膜系(如布線、電容、引線電極等)。
根據(jù)化學(xué)成分的不同,半導(dǎo)體濺射靶材又可分為金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭、鎳等)、合金靶材(鎳釩合金、鎳鉑合金等)和陶瓷復(fù)合靶材(ITO、IGZO、GST等);根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同,可分為半導(dǎo)體芯片靶材、平面觸控靶材、信息存儲(chǔ)靶材、電子器件靶材等。
半導(dǎo)體內(nèi)部通道由數(shù)萬(wàn)米的金屬線組成,而濺射靶材是制作這些布線的關(guān)鍵消耗材料。例如,蘋(píng)果的A10處理器有一個(gè)指甲大小的芯片,上面覆蓋著數(shù)萬(wàn)米的金屬線,這些金屬線必須濺到高純度的晶圓上再刻蝕以形成單獨(dú)的金屬線。濺射靶材是半導(dǎo)體晶片制造的核心,芯片對(duì)濺射靶材的要求很高,要求靶材純度高,一般在99.999%以上。
應(yīng)用與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)
你怎么知道在幾英寸的晶圓中使用哪種金屬,在先進(jìn)制造工藝中使用哪種金屬?在半導(dǎo)體晶圓制造中,200mm(8英寸)及以下晶圓的制造工藝通常以鋁為主,所用靶材主要是鋁和鈦。然而,300毫米(12英寸)晶圓的制造大多采用先進(jìn)的銅互連技術(shù),主要使用銅和鉭靶材料。
總體而言,隨著芯片的使用越來(lái)越廣泛,芯片市場(chǎng)需求量的增加,對(duì)鋁、鈦、鉭、銅這四種行業(yè)主流薄膜金屬的需求量也將隨之增加。目前,無(wú)論是技術(shù)上還是經(jīng)濟(jì)上,這四種薄膜材料都沒(méi)有替代品,因此它們不存在被取代的風(fēng)險(xiǎn)。
鑫康新材料是一家全球?yàn)R射靶材制造商,成立于2014年。欲了解更多信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)http://1230580.cn/。