PVD靶材鍍膜材料

物理氣相沉積(Physical Vapour Deposition，PVD)是指在真空條件下，采用物理方法，將材料源氣化成氣態(tài)原子或者通過電子轟擊材料源產(chǎn)生原子濺射過程，再在基體表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術(shù)。 物理氣相沉積的主要方法有：真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。發(fā)展到目前，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、聚合物膜等。

物理氣相沉積（PVD）技術(shù)基本原理可分二個工藝步驟：

PVD鍍膜靶材的優(yōu)勢

1.良好的耐久性。與其他涂層（例如電鍍）相比，PVD涂層有時更硬且更耐腐蝕，厚度更薄。
2.廣泛的應(yīng)用。幾乎所有類型的無機材料和有機材料都可以被用于鍍膜原材料。
3.環(huán)保。由于PVD鍍膜涂層工藝是在真空環(huán)境中進行的，因此它比其他傳統(tǒng)涂層技術(shù)（例如電鍍和噴漆）更加環(huán)保。
4.方便的清潔：您可以節(jié)省清潔和拋光產(chǎn)品的時間和成本，軟布或玻璃清潔劑足以清潔PVD膜。
5.高質(zhì)量和多種選擇：PVD鍍膜涂層除了具有特殊的功能，還具有多種顏色，表面細膩光滑，具有金屬光澤，永不褪色。常見的顏色是金黃色（TiN），亮銀（CrN），紫色（TiAlN）等。

PVD鍍膜靶材的應(yīng)用

物理氣相沉積（PVD）技術(shù)簡單，環(huán)保，無污染，易操作，并且與基材的結(jié)合力強。 PVD技術(shù)廣泛用于門窗五金，燈具，珠寶，工藝品和其他裝飾產(chǎn)品的加工。 PVD技術(shù)現(xiàn)在在半導(dǎo)體及集成電路領(lǐng)域非常流行，其他如太陽能光伏、節(jié)能玻璃、電動能源領(lǐng)域也有廣泛應(yīng)用。